產(chǎn)品介紹
半導(dǎo)體及封裝
Accel 離心式清洗系統(tǒng)
[簡(jiǎn)介&摘要]
MicroCel 離心式清洗系統(tǒng)為電子電路組件、精密零件、醫(yī)療設(shè)備、凸起晶圓和其他高級(jí)封裝，例如：倒裝晶片 MCM、 SIP、 BGA、 CSP 和混合電路提供絕佳的清洗效果。當(dāng)零件在一個(gè)密封的工藝容器內(nèi)旋轉(zhuǎn)時(shí)產(chǎn)生離心能，配合使用恰當(dāng)?shù)那逑磩?，離心能提供出色的滲透、溶解和污染物去除效果。完整的三步驟清洗過(guò)程可獲得其他技術(shù)無(wú)法達(dá)到的洗滌，漂洗和烘乾效果。獲得專利的 MicroCel 是電子和半導(dǎo)體封裝業(yè)內(nèi)第一個(gè)用於清洗的系統(tǒng)。 MicroCel 和其他清洗系統(tǒng)相比，沒(méi)有類同之處，但其概
念、技術(shù)和品質(zhì)經(jīng)常發(fā)現(xiàn)在半導(dǎo)體工藝設(shè)備中被應(yīng)用。
[適用產(chǎn)業(yè)&應(yīng)用範(fàn)圍]
電路板及組裝, 半導(dǎo)體及封裝, 清洗製程及其他等。
[規(guī)格&型號(hào)]
Accel 離心式清洗系統(tǒng)
*產(chǎn)品尺寸:41 cm (16 in) 34cm (13 in) 對(duì)角測(cè)量。
*工藝容器/61 cm (24 in) 54cm (21 in) 對(duì)角測(cè)量工藝容器。
*工藝時(shí)間:清洗 典型 0.5 到 2.0 分鐘/漂洗 典型 1.0 到 2.0 分鐘/漂洗 典型 2.0 到 3.0 分鐘 。
*工藝溫度:清洗材料 環(huán)境溫度到 180°F (82°C)/漂洗材料 環(huán)境溫度到 140°F (60°C)/烘乾媒介 環(huán)境溫度到 400°F (204°C)。
*旋轉(zhuǎn):轉(zhuǎn)速範(fàn)圍 0 到 999 RPM 可調(diào)整加速和減速。