產(chǎn)品介紹
發(fā)光二極體
SAWATEC 微影製程設(shè)備
Hotplates : HP series
[簡介&摘要]
Hotplate HP系列專為黃光,MEMS和類似應(yīng)用中的典型軟烤和硬烤製程而開發(fā)。 溫度範圍默認設(shè)計為高達250-300°C。 設(shè)定溫度和溫度曲線具更窄的區(qū)間,這意味著可以實現(xiàn)更高的膜後均一性。 HP系列具有高度的均勻性和高精度的工藝可重複性,因此令使用者信任。 它可用於直徑最大為150 - 300mm,厚度最大為5 - 20mm的基板。
[功能(基本配置)]
- 具有數(shù)字設(shè)定和實際值顯示的溫度控制
- 自動溫度限位開關(guān),防止過熱
- 有安全玻璃的熱板,易於清潔
- 易於調(diào)整水平的加熱板,提高光阻膜厚均一性
- 手動真空基板固定
- 手動裝載和卸載基板
[適用產(chǎn)業(yè)&應(yīng)用範圍]
半導(dǎo)體封裝,平面顯示器,發(fā)光二極體,模組等。
[規(guī)格&型號]
HP-150/HP-200/HP-200-Z/HP-300-Z
HP-150 對應(yīng)150mm面積,最大5mm厚度基板
HP-200 對應(yīng)200mm面積,最大18mm厚度基板
HP-200-Z 對應(yīng)200mm面積,最大18mm厚度基板
HP-300-Z 對應(yīng)300mm面積,最大20mm厚度基板
[選配]
- N2沖洗程序控制,防止氧化
- HMDS供給程序控制,優(yōu)化材料粘附
- 簡單的設(shè)置工具,實現(xiàn)熱板與基板的最佳對齊