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模組

Sawatec 微影製程設(shè)備

Hotplates : HP series

[簡(jiǎn)介&摘要]

Hotplate HP系列專為黃光,MEMS和類似應(yīng)用中的典型軟烤和硬烤製程而開(kāi)發(fā)。 溫度範(fàn)圍默認(rèn)設(shè)計(jì)為高達(dá)250-300°C。 設(shè)定溫度和溫度曲線具更窄的區(qū)間,這意味著可以實(shí)現(xiàn)更高的膜後均一性。 HP系列具有高度的均勻性和高精度的工藝可重複性,因此令使用者信任。 它可用於直徑最大為150 - 300mm,厚度最大為5 - 20mm的基板。

[功能(基本配置)]

- 具有數(shù)字設(shè)定和實(shí)際值顯示的溫度控制
- 自動(dòng)溫度限位開(kāi)關(guān),防止過(guò)熱
- 有安全玻璃的熱板,易於清潔
- 易於調(diào)整水平的加熱板,提高光阻膜厚均一性
- 手動(dòng)真空基板固定
- 手動(dòng)裝載和卸載基板

[適用產(chǎn)業(yè)&應(yīng)用範(fàn)圍]

半導(dǎo)體封裝,平面顯示器,發(fā)光二極體,模組等。

[規(guī)格&型號(hào)]

HP-150/HP-200/HP-200-Z/HP-300-Z

HP-150 對(duì)應(yīng)150mm面積,最大5mm厚度基板

HP-200 對(duì)應(yīng)200mm面積,最大18mm厚度基板

HP-200-Z 對(duì)應(yīng)200mm面積,最大18mm厚度基板

HP-300-Z 對(duì)應(yīng)300mm面積,最大20mm厚度基板

[選配]

- N2沖洗程序控制,防止氧化
- HMDS供給程序控制,優(yōu)化材料粘附
- 簡(jiǎn)單的設(shè)置工具,實(shí)現(xiàn)熱板與基板的最佳對(duì)齊