[簡(jiǎn)介&摘要]

顯影製程是整個(gè)曝光製程中最關(guān)鍵的製程步驟之一，因此需要特別注意製程開發(fā)及其參數(shù)（溫度，顯影時(shí)間等）的選擇。 SAWATEC顯影設(shè)備可使用水柱或噴霧方式進(jìn)行顯影，其中根據(jù)應(yīng)用技術(shù)和經(jīng)濟(jì)性選擇最佳工藝。

噴塗顯影中可分別對(duì)每個(gè)基板進(jìn)行單獨(dú)顯影，並且用新鮮的顯影劑或蝕刻劑連續(xù)噴塗曝光區(qū)域，以防止顯影劑飽和。與水柱方式顯影相比，噴塗顯影的優(yōu)點(diǎn)在於可以釋放非常小的結(jié)構(gòu)並且需要顯著更低的顯影劑溶液和蝕刻劑。

SAWATEC的SMD顯影設(shè)備憑藉其高超的設(shè)備性能，低化學(xué)品消耗以及可信賴的可重複性，即使是較厚的光阻塗層也是如此。由於簡(jiǎn)易的操作介面和易於清潔，這些儀器非常適合實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)，研究所和試點(diǎn)項(xiàng)目。

[功能(基本配置)]

- 最多可以編程50個(gè)生產(chǎn)程式，每個(gè)程式包含24個(gè)可編輯區(qū)段
- 可快速啟動(dòng)功能及重複生產(chǎn)參數(shù)功能
- 簡(jiǎn)易的操作介面及觸控面板操作
- 製程參數(shù)：速度（rpm），加速度，時(shí)間（秒），噴塗時(shí)間顯影劑（秒），噴塗臂速度，沖洗和N2乾燥
- 馬達(dá)控制噴霧手臂，具有動(dòng)態(tài)或靜態(tài)功能
- 包括一個(gè)顯影材料供料管及材料儲(chǔ)存槽（最多可提供4個(gè)顯影材料）
- 用於DI-water沖洗的噴嘴和噴塗臂上的N2乾燥噴嘴
- 包括用於壓縮空氣和用於分配的真空的控制元件
- 更安全的閉迴路製程腔體
- 手動(dòng)裝載和卸載基板
- 機(jī)械式基板固定
- 製程結(jié)束時(shí)的警告聲音信號(hào)

[適用產(chǎn)業(yè)&應(yīng)用範(fàn)圍]

半導(dǎo)體封裝，平面顯示器，發(fā)光二極體，模組等。